著錄信息
- 專利名稱：一種平臺(tái)裝置及應(yīng)用其的數(shù)碼噴印系統(tǒng)
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201620421365.6
- 公開(公告)號(hào)：CN205736452U
- 申請(qǐng)日：20160511
- 公開(公告)日：20161130
- 申請(qǐng)人：上海泰威技術(shù)發(fā)展股份有限公司
- 發(fā)明人：童舟
- 申請(qǐng)人地址：200030 上海市徐匯區(qū)虹橋路628號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN310104
- 專利權(quán)人：上海泰威技術(shù)發(fā)展股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：B41J11/00,B41J2/01
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：上海晨皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31260
- 代理人：成麗杰
- 審查員：無
- 國際申請(qǐng)：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請(qǐng)：無
關(guān)鍵詞
平臺(tái)本體,噴印,本實(shí)用新型,平臺(tái)裝置,數(shù)碼噴印,真空腔體,內(nèi)表面,真空泵,真空吸管,吸風(fēng)孔,真空框,底材,抽真空組件,一端連接,抽真空,吸附,連通,貫穿,應(yīng)用,作品
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